Institut de Chimie Moléculaire et des Matériaux d'Orsay

Synthèse, Propriétés et Modélisation des Matériaux

En plus des gros équipements disponibles dans la plateforme de l'ICMMO, l'équipe SP2M possède un certain nombre de petits et moyens équipements et est partenaire dans un certain nombre de plateformes inter-unités.

  • Trois dispositifs de fusion de zone verticale associée à un chauffage par concentration de rayonnement (fours à image Crystal System FZ-T-4000-H-II-PP, Crystal System FZ-T-4000-H-VII-VPO-PC et NEC SC-N15HD)
  • Un Laser femtoseconde IR (Satsuma, Amplitude Systèmes)
  • Un four à induction HF
  • Trois réacteurs MOCVD : 1 réacteur screening de précurseurs, 1 réacteur DLI-MOCVD et un troisième MOCVD assisté par plasma µ-onde.
  • Deux laminoirs, dont un avec des cylindres crénellés
  • Une guillotine pour plaques de métal
  • Une quinzaine de fours (0 < T < 1700°C)
  • Une presse isostatique (0 à 3000 bar)
  • Un dispositif de traitement thermique sous pression partielle d'oxygène controlée (tampon CO/CO2)
  • Deux boîtes à gants sous argon
  • Un broyeur planétaire
  • Polisseuses, scies diamantées, scies à fil
  • Divers microscopes métallographiques (Olympus PMG-3, Leica S9i ...à compléter...)
  • Dilatomètre
  • Deux dispositifs ATD-ATG (SETARAM "TG-DTA 92" de 20 à 1600 °C et "TAG24" de 20 à 1800°C), un dispositif ATG-DSC (SETARAM "DSC92" de -140 à 550°C) et un dispositif Wetsys SETARAM générateur d'humidité HR (100%)
  • Un spectromètre FTIR équipé avec un microscope IR Nicolet
  • Six générateurs RX équipés de chambres de Laüe, de précession et de Weissenberg
  • Deux goniomètres de texture
  • Une machine de traction (Zwick/roell Z010)
  • Deux micro-duromètres (Shimadzu HMV-G-FA Vickers et Knoop, Leco M-400-H)
  • Deux machines de fluage
  • Montage de flexion 3 points et 4 points sous MEB
  • Un magnétomètre à SQUID (Quantum Design MPMS-5, 0-5.5T, 1.7 à 800K) avec sonde d'insertion pour mesures électriques
  • Un ensemble de mesures de résistivité électrique par la méthode des 4 points (4 à 300K)
  • Un système de mesures de propriétés de transport (résistivité, capacitance,..) de 4K à 450K
  • Système de mesure du coefficient Seebeck de 30K à 300K 
  • Système de mesure du coefficient Seebeck et de la résistivité électrique sous atmosphère contrôlée de 300K à 1200K
  • Mesure de résistivité par la méthode van der Pauw (de 10K à 450 K)
  • Impédancemètre complexe HP
  • Un dispositif maison permettant des mesures très rapides du type et de la concentration des porteurs de l'ambiante à 750K (mesure de l'effet Hall en utilisant un champ alternatif créé par un aimant permanent de type Halbach monté sur une plateforme rotative)
  • Mesure QPM - Quantitative Phase Measurements (Olympus BX51 equipé d'un objectif piezo PI)
  • Mesure quantitative de biréfringence (Olympus BX51)
  • Banc de mesure d'indice de réfraction
  • Polarimètre de Stokes (Meadowlark Optics)
  • Mesure de photo-luminescence (Olympus BX50)
  • Appareil de Spectroscopie sous vide VUV-UV (Horiba Jobin-Yvon LHT30)
  • Un cluster de 3 noeuds Dell PowerEdge R910 (3 x 64 CPUs – 1 Go RAM/CPU – 11 To HD)
  • Deux stations de calculs Dell PowerEdge R640 (2 x 48 CPUs – 2 Go RAM/CPU – 2 x 2,4 To HD)