Mardi 9 mars 2010
Dr Pascal Doppelt Laboratoire d’Ingénierie des Matériaux et des Hautes Pressions (LIMHP, CNRS UPR 1311), Institut Galilée, Villetaneuse
"Exemples de réalisation d’objets métalliques 2 et 3D par dépôt chimique en phase vapeur dans le domaine des nanotechnologies : résultats actuels et futures directions"
Résumé : Les films obtenus par Chemical Vapor Deposition (CVD) ou Atomic Layer Deposition (ALD) ont la particularité, dans certaines conditions opératoires, de suivre parfaitement la topographie des supports sur lesquels ils sont déposés. Ainsi, peuvent être obtenus, comme nous le présentons :
- des films de très faible épaisseur (jusqu’à quelques nanomètres) dans le cas de dépôt thermique obtenus par déposition thermique du ou des précurseurs
- des objets 3D de très petite taille (de l’ordre du nanomètre) lorsque le dépôt est localement induit par un faisceau d’électrons ou le champ électrique d’une pointe STM (scanning tunneling microscopy).
Nous montrerons que les bonnes propriétés électriques de ce qui est obtenu dépend fortement de la nature des précurseurs innovants utilisés dans ces procédés. Ces résultats ont aussi parfois été rendus possibles grâce à une maitrise de l’interface support/dépôt au niveau du nanomètre. Ces précurseurs, dont certains ont été brevetés par le CNRS, présentent un potentiel d’utilisation dans la métallisation de composants électroniques avancés et dans les piles à combustibles. Nous donnerons quelques exemples de réalisation et les futures directions.